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L1/L2GMP微流控:GMP微流控(Microfluidic)技術(shù)是一種基于(微)流體力學(xué)理論,在管線中實(shí)現(xiàn)樣品制備與加工的技術(shù)。將微流體的理化模型與流體力學(xué)理論相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)樣品的混合、乳化及分離純化等功能。
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產(chǎn)品分類(lèi)品牌 | 艾特森 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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儀器種類(lèi) | 微流控芯片系統(tǒng) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生 |
L1/L2GMP微流控制備儀描述:
MPE-L2型微流控制備儀是一款可用于科研及早期工藝驗(yàn)證和技術(shù)開(kāi)發(fā)的微流控設(shè)備。以注射泵為動(dòng)力,較少樣品即可展開(kāi)實(shí)驗(yàn),另外,MPE-L2的創(chuàng)新設(shè)計(jì),支持在實(shí)驗(yàn)進(jìn)行中多次進(jìn)樣。
MPE-L3型微流控制備儀是一款可用于制備化學(xué)藥品及生物制劑的微流控設(shè)備。經(jīng)特殊設(shè)計(jì),較少樣品即可展開(kāi)實(shí)驗(yàn);不低于20L/h的處理量,滿足了小試工藝開(kāi)發(fā)及中試工藝驗(yàn)證一體化無(wú)縫銜接的需求。節(jié)省資源,提高效率。
L1/L2GMP微流控技術(shù):
1、GMP微流控(Microfluidic)技術(shù)是一種基于(微)流體力學(xué)理論,在管線中實(shí)現(xiàn)樣品制備與加工的技術(shù)。將微流體的理化模型與流體力學(xué)理論相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)樣品的混合、乳化及分離純化等功能。
2、微流控技術(shù)將過(guò)程控制技術(shù)(ProcessControlTechnology,PCT)與過(guò)程分析技術(shù)(ProcessAnalyticalTechnology,PAT)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)良好的在線樣品制備技術(shù)(On-linePreparationTechnology,OPT)。樣品在連續(xù)化制備的過(guò)程中,工藝過(guò)程中參數(shù)可控,且具備良好重現(xiàn)性,所以較傳統(tǒng)分步割裂式制備、分批次生產(chǎn)的方法來(lái)說(shuō)更具有可放大性。
3、可實(shí)現(xiàn)樣品的初乳化、復(fù)乳化、粒徑控制功能。
4、GMP微流控制備系統(tǒng)通過(guò)制備泵和高壓輸送泵與微流控芯片相連接,A相和B相可按照一定的比例恒速的輸送至芯片中進(jìn)行混合,乳化。在微流控芯片中通過(guò)設(shè)計(jì)不同的流道結(jié)構(gòu),控制不同的速度,使得樣品在微流控芯片中達(dá)到湍流、層流或霧化狀態(tài),可以實(shí)現(xiàn)樣品的初乳化或復(fù)乳化的要求。
5、制備好的樣品通過(guò)高壓泵輸送至高壓微流控芯片中,通過(guò)撞擊力和剪切力來(lái)控制粒徑,使其達(dá)到所需范圍內(nèi)。粒徑最小可達(dá)到100nm以內(nèi),PDI至0.1以下。
GMP微流控芯片:
GMP微流控芯片是基于應(yīng)用工藝的定制型特殊流道結(jié)構(gòu)部件,其通道結(jié)構(gòu)和尺寸均與項(xiàng)目工藝需求相結(jié)合,屬定制型結(jié)構(gòu)件。具體來(lái)說(shuō)可實(shí)現(xiàn)以下四種功能:
1、兩相的混合、乳化;
2、微粒形成后的孵育;
3、微粒形成后的粒徑控制;
4、二次混合或乳化。